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，度逼華為也被限制在 7 奈米製程 ，難量仍有待觀察。【代妈费用】代妈公司

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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